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TRILOS(泰洛思)超高壓納米均質機在氮化硅(Si?N?)高強度散熱陶瓷中的應用
發布時間:2026/10/8   點擊:138

關鍵詞:分散均質穩定性

概述:氮化硅陶瓷是高品質功率半導體關鍵散熱基板材料,但粉體易產生硬團聚,傳統研磨工藝存在分散差、易引入雜質、量產良率低等痛點。本文介紹 TRILOS 超高壓納米均質機,依靠超高壓流體剪切、空化、顆粒對撞作用破碎硬團聚,實現漿料納米級分散,保障燒結后基板致密度、強度與導熱性能,可實現從研發到量產的工藝線性放大,助力氮化硅散熱陶瓷產業化。

 

關鍵詞:氮化硅陶瓷;超高壓納米均質機;漿料分散;功率半導體;散熱基板

 

氮化硅(Si?N?)陶瓷是目前綜合性能至優的結構功能一體化熱管理材料,兼具高導熱、超高抗彎強度、高韌性、低熱膨脹、耐高溫、抗熱震等多重優勢,適配新能源汽車主驅IGBT、光伏逆變器、航空航天高溫器件等高要求工況散熱場景,是高品質功率半導體封裝的核心基板材料。器件長期處于高溫、高壓、冷熱交替沖擊的嚴苛工況,普通陶瓷基板易出現開裂、熱衰、變形等問題,而氮化硅陶瓷憑借優異的力學與熱學性能,成為高可靠功率器件封裝的核心基材。

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圖1 SiC 功率器件層疊散熱結構示意圖

 

氮化硅陶瓷的性能核心取決于漿料分散質量與燒結晶型轉化效果,但氮化硅粉體硬度高、表面性質特殊,配成漿料后極易形成不可逆的高強度硬團聚,傳統研磨設備的機械撞擊力無法破碎團聚內核,殘留的大顆粒團聚體最終會在陶瓷基板內部形成氣孔、裂紋等致命缺陷。此外,氮化硅燒結需要搭配稀土、鋁鎂系復合燒結助劑,助劑配比精細、添加量極低,傳統工藝難以實現均勻分散,會直接影響α-Si?N?向高導熱、高韌性β相柱狀晶的轉化,導致基板強度不足、導熱性能波動大。同時,傳統球磨、砂磨工藝處理高硬度氮化硅漿料時,設備磨損嚴重,易引入雜質,制備的漿料批次差異大、穩定性差,沉降分層明顯,破壞陶瓷高溫穩定性與力學性能,且工藝重復性差,量產良率難以把控,嚴重制約高品質氮化硅陶瓷的規模化量產。  

 

TRILOS超高壓納米均質機可針對性解決氮化硅漿料制備難題,設備可實現4000bar超高壓穩定運行,3000bar區間可長期連續量產作業,搭載超高耐磨人造金剛石分散腔,可耐受高硬度氮化硅材料的長期沖刷,無磨損、無雜質析出。超高壓產生的強流體作用力,可精準破碎氮化硅的化學鍵硬團聚,消除漿料中粗大顆粒,實現漿料納米級均勻分散。

TRILOS 超高壓納米均質機的工作原理

該設備基于超高壓流體力學效應設計,物料在精準可控高壓驅動下高速通過微結構均質腔,瞬時承受高強度剪切、湍流空化、顆粒對撞三重物理作用,可破除顆粒軟硬團聚、細化顆粒尺寸,實現固液兩相均勻分散。設備壓力調控精度高、運行穩定性優異,不堵不漏,適配低粘度氮化硅陶瓷漿料處理,可實現實驗室工藝參數到規模化生產的線性放大,滿足產業化生產需求。

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圖2 均質機原理圖

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圖3 TRILOS超高壓納米均質機

應用案例

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